荷蘭光刻機巨頭ASML首席執(zhí)行官克里斯托夫·福凱特在接受NRC采訪時透露，中國在芯片制造領域仍落后于西方10至15年。ASML是全球唯一生產(chǎn)極紫外光刻機（EUV）的公司，這些機器每臺價值數(shù)億美元，能夠將復雜的電路圖案以比頭發(fā)還細的線條刻印在硅片上。最新的高數(shù)值孔徑EUV光刻機更是能生產(chǎn)更先進的芯片。

盡管中國最大的芯片代工廠中芯國際（SMIC）和制造商華為在面對美國出口管制和制裁的情況下，仍成功生產(chǎn)出支持5G的7納米芯片，但福凱特指出，由于無法獲得EUV光刻機，中國的芯片制造技術仍遠落后于西方。目前，中芯國際只能使用較舊的深紫外光刻機（DUV），這使得其生產(chǎn)的芯片節(jié)點遠遠落后于臺積電和三星代工目前使用的3納米節(jié)點。明年，臺積電和三星代工將開始量產(chǎn)2納米節(jié)點的芯片。

ASML仍然向中國銷售DUV光刻機，并提供維修服務。美國試圖阻止ASML在中國進行DUV光刻機的維修，但ASML有充分的理由繼續(xù)提供這些服務。如果ASML停止維修，中國可能會通過自行維修學習到敏感的技術信息，進而仿制DUV光刻機。因此，ASML希望避免這種情況的發(fā)生，繼續(xù)保持與中國市場的良好業(yè)務關系。

華為和中芯國際正在努力開發(fā)自己的光刻工具，希望最終能夠生產(chǎn)與臺積電和三星代工相同工藝節(jié)點的芯片。然而，這一過程可能需要10至15年的時間。屆時，臺積電、三星代工和其他西方代工廠可能已經(jīng)使用更先進的EUV光刻機，生產(chǎn)出更加先進的芯片。